- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
|
特點 |
本設(shè)備主要由真空腔體、感應(yīng)加熱裝置噴鑄裝置、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng)。 銅輥線速度：5~60m/S 每次甩帶、噴鑄合金：5g~50g 真空鑄造裝置（標(biāo)配中不含） |
|
功率 要求 |
電壓：AC380V，三相 *大功率15KW（需60A的空氣開關(guān)） |
|
真空腔體 & 真空泵 |
真空腔體尺寸: Φ500 mm x 400 mm L 鉸鏈形式腔體門，上面安裝有石英觀察窗 設(shè)備中安裝有分子泵系統(tǒng) 真空度：5 x10 E-5 torr （20分鐘內(nèi)） 極限真空度10E-7 torr（要通過烘烤）
|
|
感應(yīng)加熱系統(tǒng)和溫控系統(tǒng) |
加熱電源功率：15Kw；頻率范圍：30~80KHz 可熔樣品量: 10 - 50g (根據(jù)材料而定). **的溫控系統(tǒng)，采用B型熱偶，可設(shè)置30段升降溫程序 控溫精度：+/- 2℃ |
|
坩堝 |
可根據(jù)客戶要求采用石英坩堝或BN坩堝
|
|
銅輥 |
標(biāo)配銅輥不含水冷卻 銅輥線速度：5~60m/S 可選: 可選購水冷銅輥，*大處理樣品量為500g 可選購真空鑄造模塊
|
|
可選 配件 |
可根據(jù)要求選購鑄造配件（澆鑄、噴鑄） 可根據(jù)要求為鑄造銅模具定制水冷系統(tǒng)
|
|
外型 尺寸 |
2000×1100×1800mm(L×W×H) |
|
設(shè)備 重量 |
~800Kg |
|
質(zhì)量 認(rèn)證 |
CE認(rèn)證 |
