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產品詳情
  • 產品名稱:R-PECVD?真空旋轉等離子增強CVD設備

  • 產品型號:CY-OTF-1200X-I-PEC4
  • 產品廠商:成越科儀
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簡單介紹:
R-PECVD真空旋轉等離子增強CVD設備由旋轉及傾斜機構、單溫區管式爐、等離子發生機構、質量流量計供氣系統、高真空分子泵組部分構成。R-PECVD真空旋轉等離子增強CVD設備利用旋轉和傾斜機構實現連續生產,并且可以使顆粒型樣品表面均勻生長產物。
詳情介紹:

R-PECVD真空旋轉等離子增強CVD設備(1200℃單溫區 4路MFC)設備由旋轉及傾斜機構、單溫區管式爐、等離子發生機構、質量流量計供氣系統、高真空分子泵組等部分構成。

特點:

1.  相比于其他的石墨烯制備設備,能提供更高的基底真空,提高產物質量;
2. 能夠利用旋轉和傾斜機構實現連續生產使顆粒型樣品表面均勻生長產物;
3. 等離子發生裝置能夠顯著降低反應溫度,提高反應效率。 

技術參數:

單溫區管式爐

產品型號

CY-OTF-1200X-I-PEC4

爐管材質

高純石英

爐管直徑

100mm

爐管長度

1500mm

爐膛長度

440mm

加熱區長

400mm

恒溫區長

200mm

工作溫度

0~1100℃

控溫精度

±1℃

控溫模式

30段或50段程序控溫

顯示模式

高清全彩LCD觸控屏

密封方式

304不銹鋼真空法蘭

供電電源

AC:220V 50/60Hz

RF輸出系統

功率范圍

0~500W可調

工作頻率

13.56MHz+0.005%

工作模式

連續輸出

匹配阻抗模式

能夠匹配,起輝均勻布滿爐管

功率穩定度

≤2W

正常工作反射功率

≤3W

放大反射功率

≤70W

諧波分量

≤-50dBc

整機效率

≥70%

功率因素

≥90%

供電電壓/頻率

單相交流(187V~153V) 頻率50/60Hz

控制模式

內控/PLC 模擬量/RS232/485通訊

電源保護設置

DC過流保護,功放過溫保護,反射功率保護

冷卻方式

強制風冷

起輝長度

在Ar下射頻電源與線圈配合起輝輝光能布滿爐管

供氣系統

流量計

四路質子流量計

流量范圍

MFC1量程:0~200sccm  MFC2量程:0~200sccm

MFC3量程:0~500sccm  MFC4量程:0~500sccm

分別對應氣體H2、 CH4、 N2、 Ar.

測量精度

±1.5%F.S

重復精度

±0.2%FS

線性精度

±1%F.S.

響應時間

≤4s

工作壓力

-0.15Mpa~0.15Mpa

流量控制

液晶觸摸屏控制,數字顯示,每路氣體含有針閥單獨控制

進氣接口

可接1/4NPS或者外徑6mm不銹鋼管

出氣接口

可接1/4NPS或者外徑6mm不銹鋼管

連接方式

雙卡套接頭

工作溫度

5~45℃

氣體預混

配氣體預混裝置

排氣系統

 

產品型號

CY-GZK103-A

分子泵

渦輪分子泵

前級泵

雙級旋片泵

抽氣速率

分子泵:600L/S

綜合抽氣性能:30分鐘真空度可達:5×10E-3Pa

旋片泵:1.1L/S

極限真空

5×10E-4Pa

抽氣接口

KF40

排氣接口

KF16

真空測量

復合真空計

旋轉及傾斜裝置

轉速范圍

0-20rpm

傾斜角度

0-15°

進出料

自動進料,傾斜后可自動集料

 

豫公網安備 41019702002438號