- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
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- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 箱式氣氛爐
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- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
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- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
一、設(shè)備性能:
鍍膜設(shè)備以金屬/有機(jī)源蒸發(fā)為主體,適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜等,也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等,整套設(shè)備操作簡(jiǎn)便,綜合功能多,擴(kuò)展空間大,適合及滿足大專院校的教學(xué)與科研工作。
二、設(shè)備基本結(jié)構(gòu):
鍍膜設(shè)備由真空室腔體,金屬/有機(jī)源系統(tǒng),樣品臺(tái)系統(tǒng),真空泵機(jī)組,膜厚檢測(cè)系統(tǒng),設(shè)備機(jī)架,電控系統(tǒng)組成,真空室前門可與手套箱對(duì)接,采用一體化的設(shè)計(jì)方案,整套設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊、布局簡(jiǎn)潔,避免實(shí)驗(yàn)設(shè)備外觀凌亂的現(xiàn)象。
三、設(shè)備技術(shù)指標(biāo):
產(chǎn)品名稱
帶手套箱三源蒸發(fā)鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)
CY-EVH400-III-HHH-SS-STX
真空室腔體
外形
上等 304 不銹鋼 D 形真空室腔體 1 套,真空室內(nèi)部尺寸 D400*480mm,前后雙開(kāi)門,后門采用鉸鏈?zhǔn)椒介T,方便清洗真空腔體,真空室內(nèi)部調(diào)試,維修以及取放物品,前門采用橫拉方門,前后門各配 DN100 視窗 1 套;
底部
金屬源接口 2 套,有機(jī)源接口 4 套, 復(fù)合分子泵接口 1 套,CF25照明接口 2 套以及膜厚探頭接口 3 套;
頂部
樣品臺(tái)接口 1 套,電動(dòng)擋板接口 1 套,高真空氣動(dòng)擋板閥接口 1 套
左側(cè)
超高真空氣動(dòng)擋板閥接口 1 套
金屬/有機(jī)源系統(tǒng)
金屬蒸發(fā)源
金屬蒸發(fā)源 2 套:水冷銅電極 2 組,兼容蒸發(fā)舟(鎢、鉬和鉭舟)和螺旋絲,配氣動(dòng)擋板,1KW 直流恒流電源 1 臺(tái)(數(shù)字顯示),電流調(diào)整精度 1A(微調(diào)),功率滿足常見(jiàn)的金屬以及金屬氧化物的蒸鍍;
有機(jī)蒸發(fā)源 4 套
有機(jī)蒸發(fā)源 4 套:4CC(4ml)
石英舟,溫控電源 2 臺(tái)(溫控表顯示精度 0.1℃),溫度區(qū)間:室溫-500℃(控溫精度±1℃),配氣動(dòng)擋板;
隔板
蒸發(fā)源相互獨(dú)立,隔板分隔,避免交叉污
樣品臺(tái)系統(tǒng)
基片旋轉(zhuǎn)
轉(zhuǎn)速 0~30 轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)
基片升降
電動(dòng)升降,襯底與蒸發(fā)源間距 200-300mm 通過(guò)觸摸屏連續(xù)可調(diào);
樣品臺(tái)
圓形托盤 1 套,一次可放置8片20×20mm 基片
基片擋板
電動(dòng)擋板
真空泵機(jī)組
1) 600L/s分子泵 1 臺(tái);
2) 8L/s雙級(jí)泵 1 臺(tái)
3) CF150 氣動(dòng)超高真空插板閥 1 臺(tái);
4) CF40 超高真空氣動(dòng)擋板閥 1 臺(tái);
5) KF16 高真空氣動(dòng)擋板閥 1 臺(tái);
6) KF40 高真空氣動(dòng)擋板閥 1 臺(tái);
7) KF40 真空電磁充氣閥 1 臺(tái);
8) KF40 泵閥連接軟管 2 套,KF40 三通 1 套;
膜厚檢測(cè)系統(tǒng)
膜厚儀
三通道石英晶振膜厚監(jiān)測(cè)儀 1 套;
膜厚探頭
CF35 水冷膜厚探頭 3 套
設(shè)備機(jī)架
1) 40 碳鋼方管焊接機(jī)架 1 套,表面噴塑;
2) 萬(wàn)向輪 4 件,移動(dòng)調(diào)整;
3) M16 地腳 4 件,鎖緊定位
電控系統(tǒng)
金屬源蒸發(fā)源氣動(dòng)擋板
2套
金屬蒸發(fā)源電源1kw
1套
有機(jī)源蒸發(fā)源氣動(dòng)擋板
4套
有機(jī)蒸發(fā)源電源
2套(1帶2)
烘烤照明電源
1 臺(tái)
樣品臺(tái)電動(dòng)擋板
1套
總控制電源
1套
PLC 控制
配觸摸屏
手套箱
腔體尺寸
L1200*
W750* H900mm
手套
3只
大過(guò)渡艙
內(nèi)徑360mm, 長(zhǎng) 600mm
小過(guò)渡艙
內(nèi)徑150mm, 長(zhǎng)300mm
其他技術(shù)參數(shù)
1) 缺相保護(hù)、誤操作保護(hù),聯(lián)動(dòng)互鎖以及一鍵真空啟停等功能;
2) 供電:~220V 兩相供電系統(tǒng)(峰值 3KW);
3) 供水:小型冷水機(jī),冷卻水溫度 5℃~35℃,工作環(huán)境溫度:10℃~40℃;
4) 供氣:小型無(wú)油靜音氣泵,提供 0.2-0.3MPa 氣壓,驅(qū)動(dòng)氣動(dòng)閥門;
5) 極限真空:優(yōu)于 6×10-5Pa,大氣至 6×10-4Pa 時(shí)間小于 35 分鐘(充干燥氮?dú)猓P(guān)機(jī)
12 小時(shí)真空度≤10Pa。
9) ZDF-5227 數(shù)顯真空計(jì) 1 臺(tái)(測(cè)量范圍:1×105~1×10-5Pa)。