- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本產(chǎn)品為二合一鍍膜儀，可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。設(shè)備主要由石英真空室、等離子濺射靶，蒸發(fā)鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規(guī)管，進氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。
設(shè)備主機采用觸摸顯示屏操作，溫控表檢測。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺。真空室采用上中下結(jié)構(gòu)，樣品臺與靶的距離靈活可調(diào)。
設(shè)備真空獲得系統(tǒng)采用上等雙極旋片泵。 具有體積小，噪音小，無油污污染等優(yōu)點。
真空腔體采用石英加工而成，呈現(xiàn)圓柱結(jié)構(gòu)，外形美觀，大方。主要密封法蘭采用 KF 系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封，真空性能優(yōu)良，能有效鍍膜質(zhì)量。
技術(shù)參數(shù)：
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樣品臺 |
φ80mm |
至蒸發(fā)源間距 |
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20mm~50mm可調(diào) |
φ80mm |
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直流濺射頭 |
數(shù)量 |
2” x1 |
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蒸發(fā)系統(tǒng)
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蒸發(fā)源 |
鎢絲籃 |
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*高溫度 |
1700℃ |
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熱電偶 |
S型熱電偶 |
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真空腔體
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腔體尺寸 |
φ180mm X 150mm |
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觀察窗口 |
全向透明 |
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腔體材料 |
高純石英 |
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開啟方式 |
頂蓋拆卸式 |
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真空系統(tǒng)
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機械泵 |
GHD-031B |
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抽氣接口 |
KF16 |
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真空測量 |
電阻規(guī) |
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排氣接口 |
KF16 |
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極限真空 |
10E-1Pa |
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供電電源 |
AC;220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
旋片泵：4L/S |
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濺射電源配置 |
數(shù)量 |
直流電源 x1 |
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*大輸出功率 |
150w |
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其他
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供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機尺寸 |
500 X 350 X 400mm |
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整機重量 |
15kg |
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整機功率 |
1.5kw |
